ワーク保持装置及びこれを用いたワークの横ずれ検出方法

Abstract

ワーク(w)の平面方向に対する横ずれを検出することができるワーク保持装置、及びそれを用いたワーク(w)の横ずれ検出方法を提供する。 支持プレート上に粘着パッド(2)を備えてワーク(w)を保持するワーク保持装置であって、ワーク(w)の周縁部に対応する位置の少なくとも一部に配設された第1及び第2の電極(3a、3b)からなる電極対を有して、この電極対の静電容量を測定する静電容量測定器(5)と、測定された静電容量を所定の基準値と比較して、支持プレート(1)の平面方向に対するワーク(w)の横ずれを検出する比較回路(6)とを備えたワーク保持装置であり、また、上記比較回路(6)に入力された静電容量を所定の基準値と比較して、ワーク(w)の横ずれを検出するワーク(w)の横ずれ検出方法である。

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      Publication numberPublication dateAssigneeTitle
      JP-2003303875-AOctober 24, 2003Japan Science & Technology Corp, Yoshio Kano, Tamura Seisakusho Co Ltd, 株式会社タムラ製作所, 科学技術振興事業団, 快男 鹿野Stage apparatus for micromachining
      JP-H10256356-ASeptember 25, 1998Nikon Corp, 株式会社ニコンPositioning device, and exposure device provided with the same
      JP-H1187228-AMarch 30, 1999Nikon Corp, 株式会社ニコンAligner and method of exposure
      WO-03075343-A1September 12, 2003Sharp Kabushiki Kaisha, Hitachi Industries Co., Ltd.Method for holding substrate in vacuum, method for manufacturing liquid crystal display device, and device for holding substrate

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